
Типы сооружений для обработки осадков: Септиками называются сооружения, в которых одновременно происходят осветление сточной жидкости...
Состав сооружений: решетки и песколовки: Решетки – это первое устройство в схеме очистных сооружений. Они представляют...
Топ:
Основы обеспечения единства измерений: Обеспечение единства измерений - деятельность метрологических служб, направленная на достижение...
Техника безопасности при работе на пароконвектомате: К обслуживанию пароконвектомата допускаются лица, прошедшие технический минимум по эксплуатации оборудования...
Методика измерений сопротивления растеканию тока анодного заземления: Анодный заземлитель (анод) – проводник, погруженный в электролитическую среду (грунт, раствор электролита) и подключенный к положительному...
Интересное:
Подходы к решению темы фильма: Существует три основных типа исторического фильма, имеющих между собой много общего...
Распространение рака на другие отдаленные от желудка органы: Характерных симптомов рака желудка не существует. Выраженные симптомы появляются, когда опухоль...
Мероприятия для защиты от морозного пучения грунтов: Инженерная защита от морозного (криогенного) пучения грунтов необходима для легких малоэтажных зданий и других сооружений...
Дисциплины:
![]() |
![]() |
5.00
из
|
Заказать работу |
Содержание книги
Поиск на нашем сайте
|
|
Розрізняють ПН з використанням високочастотних індукційних і дугових плазмотронів. ВЧ - плазмотрони (рисунок 2.5) знаходяться у стадії розробки. Їх основна перевага - введення матеріалу, що розпилюється, по осі плазмового струменя (осьова подача). Недолік: громіздкість (Н ~ 600 мм, d ~ 300 мм).
Найбільше поширення для плазмового нагріву газу одержали дугові плазмотрони. В них джерелом нагріву газу і переведення його в стан низькотемпературної плазми є електрична дуга.
Рисунок 2.5 - Схема високочастотного індукційного плазмотрона:
1 - сопло плазмотрона; 2 - плазмовий струмінь; 3 - індуктор; I - подача матеріалу, що розпилюється; II - подача плазмоутворюючого газу
В основному в практиці напилення застосовуються однодугові плазмотрони. Принципова схема подібного плазмового пальника наведена на рисунку 2.6.
Рисунок 2.6 - Схема однодугового плазмотрона
Пальник складається з: стрижньового електрода 1; соплового електрода 2 і розділювальної ізолюючої вставки 3.
В однодугових плазмотронах осьова подача матеріалу утруднена. Тому застосовується його радіальне введення за схемами (див. рис. 2.6):
а) введення матеріалу, що розпилюється, вище за розташування активної плями дуги в сопловому пристрої (доанодна подача). При цьому досягаються найвищі значення ККД нагріву частинок;
б) введення матеріалу, що розпилюється, нижче за розташування активної плями дуги (заанодна подача)
в) введення матеріалу, що розпилюється нижче за зріз сопла (на зріз сопла).
Якщо негативний полюс джерела живлення приєднаний до стрижньового електрода, а позитивний - до соплового, говорять, що плазмотрон працює на «прямій» полярності. Якщо «+» приєднаний до стрижньового, а «-» до соплового електрода - плазмотрон працює на зворотній полярності.
В СНД набула поширення подача матеріалу за схемами а) і б). За кордоном – за схемою в). При цьому спрощується конструкція плазмового пальника.
Разом з однодуговими набувають поширення двоструменеві плазмотрони і плазмотрони з трифазною дугою. Їх принципові схеми наведені на
рисунку 2.7.
Рисунок 2.7 – Схема двоструменевого плазмотрона (а) і плазмотрона з трифазною дугою (б)
Найбільше поширення набули однодугові розпилювачі, в яких використовуються два види дуг:
а) дуги з довжиною, що самовстановлюється, в яких анодна або катодна пляма в сопловому пристрої не фіксована. Струм дуги визначається її довжиною. Оскільки довжина дуги в цьому випадку непостійна, отже, не постійна і сила струму. Коливання довжини дуги відбувається з періодом, сумірним з часом нагріву порошку. Це погіршує умови його прогрівання. При короткій дузі спостерігатиметься слабкий нагрів плазмоутворюючого газу. Різко зросте частка тепла, що витрачається на нагрів електродів.
|
б) дуги з фіксованою довжиною. В одному з варіантів прив'язки опорної плями дуги робиться уступ в сопловому електроді на його торці. Кут забезпечує концентрацію напруженості електричного поля і тим самим стабілізацію довжини дуги. Lд ~ const, отже Iд ~ const.
В іншому - до торця соплового електрода через електроізолюючу прокладку під'єднують кільце з електропровідного матеріалу, і на нього перемикають відповідний потенціал від джерела живлення. В цьому випадку довжина дуги також залишається практично незмінною. Подібних міжелектродних вставок може бути декілька, що дозволяє максимально розтягнути електричну дугу (рис. 2.8).
Рисунок 2.8 - Плазмотрон з міжелектродними вставками (МЕВ)
В подібних плазмотронах при використанні аргону в якості плазмоутворюючого газу можна збільшити напругу на дузі до 120 В. Для звичайних плазмових пальників воно знаходиться на рівні 35-40 В.
|
|
История создания датчика движения: Первый прибор для обнаружения движения был изобретен немецким физиком Генрихом Герцем...
Архитектура электронного правительства: Единая архитектура – это методологический подход при создании системы управления государства, который строится...
Папиллярные узоры пальцев рук - маркер спортивных способностей: дерматоглифические признаки формируются на 3-5 месяце беременности, не изменяются в течение жизни...
Адаптации растений и животных к жизни в горах: Большое значение для жизни организмов в горах имеют степень расчленения, крутизна и экспозиционные различия склонов...
© cyberpedia.su 2017-2024 - Не является автором материалов. Исключительное право сохранено за автором текста.
Если вы не хотите, чтобы данный материал был у нас на сайте, перейдите по ссылке: Нарушение авторских прав. Мы поможем в написании вашей работы!