Индивидуальные и групповые автопоилки: для животных. Схемы и конструкции...
Адаптации растений и животных к жизни в горах: Большое значение для жизни организмов в горах имеют степень расчленения, крутизна и экспозиционные различия склонов...
Топ:
Комплексной системы оценки состояния охраны труда на производственном объекте (КСОТ-П): Цели и задачи Комплексной системы оценки состояния охраны труда и определению факторов рисков по охране труда...
Когда производится ограждение поезда, остановившегося на перегоне: Во всех случаях немедленно должно быть ограждено место препятствия для движения поездов на смежном пути двухпутного...
Интересное:
Лечение прогрессирующих форм рака: Одним из наиболее важных достижений экспериментальной химиотерапии опухолей, начатой в 60-х и реализованной в 70-х годах, является...
Что нужно делать при лейкемии: Прежде всего, необходимо выяснить, не страдаете ли вы каким-либо душевным недугом...
Берегоукрепление оползневых склонов: На прибрежных склонах основной причиной развития оползневых процессов является подмыв водами рек естественных склонов...
Дисциплины:
2023-02-16 | 48 |
5.00
из
|
Заказать работу |
|
|
· резистивное
Основано на создании высокого вакуума (длина свободного пробега сравнима с характеристическими размерами). В методе резистивного испарения испарение термическое. Рост пленки – сложный процесс. В основном металлы. Уравнение Герца-Кнудсена. Достаточно высокая скорость роста. Испарение может происходить как из твердой фазы, так и с жидкой фазы.
· индукционное
· электронно-лучевое
Термический вакуумный метод, нагреваем электронным пучком. Большая энергия электронов. Технически сложный метод. Низкий КПД. В тонких пленках возможны радиационные дефекты, которые можно отжигать в процессе роста пленок. Металлы.
· лазерное
Не только металлы. Лазерное излучение должно быть сильно-поглощаемым. Насаждение маленькими дискретными порциями. Получаем пленку с сохранением состава материала, нельзя получить другими методами. Толщины можно очень точно регулировать. Метод перспективный для создания сверхрешеток. Толщина 0,1-10 А.
· электродуговое
Методы ионного распыления (не связаны с высокой температурой)
· ионно-лучевое
Формируется ионный луч. Ионный источник вынесен из системы мишень-подложка.
· ионно-плазменные (универсальный метод: для диэлектриков и металлов)
o катодное распыление
Аргон – тяжелый и дешевый инертный газ. Низкотемпературная газоразрядная плазма. Газ ионизируется. Катод – мишень. Коэффициент распыления линейно растет с энергией ионов. Тлеющий разряд.
+ низкие температуры
+ распыление тугоплавких металлов
+ получение покрытий различного химического состава (метод реактивного катодного распыления)
+ высокая равномерность осаждение пленок на непланарных поверхностях
|
+ сохранения состава покрытий
+ получение пленок сложного состава (квазисплав) с использованием мозаичных мишеней: керметы
+ высокая адгезия (прилипание пленок к поверхности)
– низкие скорости роста покрытия (<1нм/с): скорость можно повысить, сильнее распыляя мишень, не можем увеличить ток ионов, так как нужно уменьшить давление, что приведет к уменьшению концентраций, следовательно, повысить скорость не можем.
– растущие пленки не очень чистые
– возможны радиационные дефекты
o магнетронное
Модификация катодного распыления. Диодная система. Катод – мишень. Под катодом создана магнитная система. Между катодом и анодом возникает тлеющий разряд. Движение электрона (иона) будет сложным из-за магнитного поля. Магнитная ловушка. Скрещенные электронные и магнитные поля.
+ высокая скорость осаждения пленок
o высокочастотное
Между катодом и анодом переменное напряжение 13,56 МГц.
Ионно-плазменные (химические) методы получения тонких пленок. Магнетронное напыление.
- Газо-плазменные методы
Химические методы получения тонких пленок.
Газофазные методы (CVD)
Задачи:
· диэлектрические пленки
· реже можно осаждать металлические пленки
· пассивация/герметизация
· чаще всего поликремний (затвор, короткие проводящие участки)
Физическая адгезия не способна удержать тонкие пленки на подложке (маленькая энергия – около 0,2 эВ).
Эпитаксия. Газофазная и молекулярно-лучевая эпитаксия.
Осаждение тонких пленок наращиванием монослоев.
Эпитаксия должна проходить при высокой температуре и с маленькой скоростью осаждения.
· Газо-фазная эпитаксия
· Молекулярно-лучевая эпитаксия
Проблемы металлизации в технологии ИС.
Главная проблема: время задержки на межсоединениях больше, чем на самих транзисторах.
Контакт металл-полупроводник – диод Шоттки. Возникает потенциальный барьер. Решение – подконтактное легирование. Под контактом всегда должен быть сильнолегированный проводник.
|
Для металлизации нельзя использовать медь и золото, так как у них плохая (физическая) адгезия и они диффундируют внутрь кремния. У алюминия хорошая (химическая) адгезия, поэтому его используют. Иногда между кремнием и алюминием наносят адгезив (клей).
Адгезия
· Физическая адгезия: Вандервальсовы силы, слабая адгезия, 0,2 эВ.
· Химическая адгезия (хемоадгезия): с протеканием химической реакции, образуются химические связи между веществами, нас интересует этот тип адгезии.
Электромиграция
Гигантские плотности токи. При этом электроны рассеиваются на ионах, в электрической шине возникают дефекты – пустоты. Явление электромиграции определяет срок службы.
Решения:
· ограничивать плотность тока → накладываются ограничения на размеры шин;
· использование поликристаллов;
· использование не чистого алюминия, а с примесями меди, ванадия и др.
Недостатки алюминия:
· прокол p-n перехода, с этой проблемой можно бороться – адгезионный барьер;
· плохая стойкость к электромиграции;
· неконфорное осаждение;
· химически активный материал, не стойкий к высоким температурам.
Нужно разрабатывать конфорные методы осаждения. Такие способы более сложные технологически.
Силициды используются для металлизации.
Методы металлизации
1. Термическое испарение (электронно-лучевой и индукционный нагрев);
2. Распыление (катодное, высокочастотное, магнетронное);
3. Химическое осаждение из парогазовых смесей при пониженном давлении. Преимущества: конформное покрытие, возможность нанесение на большое количество подложек одновременно, простое оборудование.
Адгезионный слой обеспечивает адгезию и предотвращает диффузию.
Металлизация на основе меди
|
|
Автоматическое растормаживание колес: Тормозные устройства колес предназначены для уменьшения длины пробега и улучшения маневрирования ВС при...
Семя – орган полового размножения и расселения растений: наружи у семян имеется плотный покров – кожура...
Архитектура электронного правительства: Единая архитектура – это методологический подход при создании системы управления государства, который строится...
Эмиссия газов от очистных сооружений канализации: В последние годы внимание мирового сообщества сосредоточено на экологических проблемах...
© cyberpedia.su 2017-2024 - Не является автором материалов. Исключительное право сохранено за автором текста.
Если вы не хотите, чтобы данный материал был у нас на сайте, перейдите по ссылке: Нарушение авторских прав. Мы поможем в написании вашей работы!