Возможности повышения оптической прочности кристаллов и оптических элементов:

Методы повышения оптической прочности кристаллических элементов проходной оптики мощных лазеров можно разделить на три основных группы:

1. упрочнение кристаллической матрицы;

2. оптимизация технологии обработки поверхности;

3. совершенствование условий эксплуатации оптических элементов.

Возможности повышения оптической прочности кристалла вытекают из критериев прочности и сводятся к уменьшению поглощения и увеличению механической прочности. Уменьшение поглощения достигается, во-первых, очисткой сырья и, во-вторых, совершенствованием процесса выращивания кристаллов с целью уменьшения концентрации дефектов (прежде всего, поглощающих микровключений и точечных дефектов), повышающих оптическое поглощение. Минимальное значение коэффициента поглощения, которое может быть достигнуто для данного кристалла, определяется свойствами его кристаллической структуры.

Механическое упрочнение кристалла может сыграть роль при относительно мягких воздействиях, когда работают механизмы накопления с участием пластической деформации, а разрушение происходит в результате развития макроскопических трещин. Возможности упрочнения были реализованы на объемных кристаллах ЩГК (щелочно-галоидные кристаллы) в работах, проводившихся на кафедре физики кристаллов МИСиС. Известно, что наиболее эффективный метод упрочнения ЩГК - легирование иновалентными катионными примесями, имеющими ионный радиус, близкий к ионному радиусу катиона матрицы. Однако в данном случае упрочнение легированием дает противоположный результат: кристаллы становятся менее стойкими к лазерному воздействию, так как эффект увеличения коэффициента поглощения при легировании превосходит эффект механического упрочнения. Более эффективным оказывается деформационное упрочнение. Однако и при таком упрочнении наблюдается повышение поглощения при больших степенях деформации.

Поэтому для упрочнения оптики из ЩГК для непрерывных -лазеров был предложен режим двукратного деформирования при комнатной температуре до степени деформации 7% с промежуточным отжигом при  и скорости нагрева 50 град/ч и скорости охлаждения 10 град/ч. Такой режим позволял получать деформационное упрочнение кристаллов за счет повышения плотности дислокаций, устраняя возникающие при деформации точечные дефекты, которые способствуют повышению поглощения света. В результате лучевая прочность кристалла возрастала в несколько (10…13) раз. Однако при такой обработке получаются сильно неравновесные структуры с большой плотностью дислокаций, что создает возможность изменения структуры кристалла или в процессе эксплуатации вследствие рекристаллизации при нагреве лазерным лучом, или даже при хранении кристалла при комнатной температуре. Поэтому для повышения лучевой прочности кристаллов предлагается термомеханическая обработка, включающая деформацию при повышенной температуре (около ) со скоростями деформации около 0,07 мм/мин. Такая деформация позволяла получать однородную устойчивую мелкозернистую структуру, что обеспечивает упрочнение при пластической деформации и растрескивании за счет торможения дислокаций и трещин границами зерен. Мелкозернистая структура локализует и те трещины, которые возникают на локальных микронеоднородностях.

Роль механического упрочнения возрастает с увеличением апертуры луча, так как с ростом апертуры возрастает роль макронапряжений в процессе деформации и разрушения кристалла при лазерном облучении. Наиболее полезным механическое упрочнение оказывается для повышения оптической прочности окон, работающих в условиях перепада давления и испытывающих дополнительные механические нагрузки. В этом случае применение упрочненных кристаллов для изготовления окон вывода излучения позволяет уменьшить толщину окна и, следовательно, снизить интегральное поглощение света окном, что приводит к повышению их оптической прочности.

Совершенствование технологии обработки поверхности, так же как и объема, имеет целью снижение оптического поглощения и повышение механической прочности. Одной из основных причин поглощения света на поверхности могут быть частицы абразива, оставшиеся на поверхности в микропорах и трещинах. Поэтому при шлифовке и полировке поверхности на заключительных стадиях не следует применять абразивы, материал которых способен поглощать излучение на тех длинах волн, на которых работает данный оптический элемент. В частности наиболее прозрачным для -лазеров является алмаз, поэтому оптические элементы для -лазеров следует обрабатывать алмазным абразивом, даже если обрабатывается такой мягкий материал, как ЩГК. Снижение толщины приповерхностного нарушенного слоя достигается использованием химико-механической полировки, сочетающей механическую полировку и химическое травление. Для ЩГК финишной обработкой, дающей оптическую прочность поверхности, близкую к объемной, является полировка на батистовом полировальнике с водой и без абразива.

Совершенствование условий эксплуатации является важнейшей проблемой, включающей как режимы эксплуатации кристаллической оптики, так и конструктивное оформление оптических элементов, позволяющее ослабить влияние плазменного факела на поверхность оптического элемента. Следует учитывать, что кристаллическая оптика во многих случаях отличается от стеклянной и не допускает попадания на поверхность оптического элемента брызг металла, воды и пыли.

Заключение:

В ходе данной работы были изучены явления разрушения оптического материала, вызванные лазерным излучением, методики исследования лучевой прочности, схемы и принципы работы стендов для контроля лучевой прочности, возможности повышения лучевой прочности, а также изучены процессы, которые происходят в оптических материалах при их деградации или разрушении.