Папиллярные узоры пальцев рук - маркер спортивных способностей: дерматоглифические признаки формируются на 3-5 месяце беременности, не изменяются в течение жизни...
Индивидуальные и групповые автопоилки: для животных. Схемы и конструкции...
Топ:
Методика измерений сопротивления растеканию тока анодного заземления: Анодный заземлитель (анод) – проводник, погруженный в электролитическую среду (грунт, раствор электролита) и подключенный к положительному...
История развития методов оптимизации: теорема Куна-Таккера, метод Лагранжа, роль выпуклости в оптимизации...
Отражение на счетах бухгалтерского учета процесса приобретения: Процесс заготовления представляет систему экономических событий, включающих приобретение организацией у поставщиков сырья...
Интересное:
Наиболее распространенные виды рака: Раковая опухоль — это самостоятельное новообразование, которое может возникнуть и от повышенного давления...
Что нужно делать при лейкемии: Прежде всего, необходимо выяснить, не страдаете ли вы каким-либо душевным недугом...
Лечение прогрессирующих форм рака: Одним из наиболее важных достижений экспериментальной химиотерапии опухолей, начатой в 60-х и реализованной в 70-х годах, является...
Дисциплины:
2017-10-17 | 371 |
5.00
из
|
Заказать работу |
|
|
Попадающий на мишень электронный луч создает заряд, равный произведению тока на время экспонирования. Полезное действие луча на поверхность мишени можно выразить через число электронов, приходящееся на единицу площади, которое необходимо для получения нужного эффекта. Так, каждый резист характеризуется пороговой дозой S, измеряемой в кулонах на квадратный сантиметр. Время, необходимое для экспонирования пятна диаметром ds лучом с плотностью тока Js на поверхности мишени, равно
ts = = S/Js.
Например, чтобы экспонировать резист с S=8 • 10-5 Кл/см2 требуется примерно S*1014 электрон/см2; в этом случае достигается разрыв (или сшивание) такого количества химических связей в полимере, что обеспечивается проявление с желаемой контрастностью. Чем меньше значение S, тем выше чувствительность резиста, т. е. для достижения нужного эффекта в резисте требуется меньшее число электронов. Поэтому чувствительность резиста строго определяет скорость экспонирования в процессе электронно-лучевой литографии.
Существенное ограничение на разрешающую способность накладывает расширение экспонированной линии в резисте, вызываемое рассеянием электронов, поскольку ширина линии оказывается больше диаметра пятна.
Хорошо известно, что попадающие в твердый материал электроны могут рассеиваться под большими углами вследствие упругих столкновений с атомными ядрами материала; рассеян не приблизительно пропорционально атомному номеру Z [21, 68]. Пробег электронов в резисте обычно много больше толщины слоя резиста, поэтому электроны проходят сквозь резист в подложку (например, кремниевую), характеризующуюся большим (относительно резиста) атомным номером. По этой причине рассеяние происходит главным образом в подложке. Значительная часть электронов отражается и возвращается в резист, причем электроны имеют достаточную для экспонирования энергию. В результате образуется широкая по сравнению с диаметром падающего электронного луча экспонированная область.
|
Эффект рассеяния обусловливает принципиальное ограничение минимальной ширины линий, формируемых е помощью электронно-лучевой литографии. Кроме того, некоторые резисты способны изменять форму рисунка — набухают или дают усадку при проявлении, что отражается на размерах элементов рисунка.
Помимо рассеяния электронов существует другой эффект, ограничивающий минимальную ширину формируемых линий [22]; этот эффект зависит от чувствительности резиста и обусловлен главным образом статистическим характером потока электронов. Эффект будет рассмотрен в гл. 2, однако здесь полезно дать его качественное описание. Как было показано, экспонирование резиста характеризуется числом электронов, падающих на единицу площади, т. е. S = eNe/A, где Ne — число электронов, попадающих на площадь А. Численно это составляет для A = (0,1 см)2 и 5=10"7 Кл/см2
электронов. Однако если A = (0,01 мкм)2, то для того же резиста Ne~ 0,6электрона.
Поэтому концепция постоянной чувствительности резиста недействительна, когда дискретная экспонируемая область очень мала. На каждую минимальную экспонируемую область (элемент разложения) должно приходиться некоторое минимальное число электронов.
Это число грубо можно определить следующим образом. Эмиссия электронов с катода представляет собой случайный (во времени) процесс, а не последовательность равномерно-распределенных во времени событий. Поскольку число электронов, попадающих на поверхность за время t(Ns = ~ Jt/e), велико, неопределенность этого числа составляет У Ns. Это означает, что реально число электронов может изменяться в интервале Jtje±^Jt!e. Поэтому отношение необходимого числа электронов к значению неопределенности составляет Nsj\ANS = V~ Ns и напоминает отношение сигнал-шум. Для полной уверенности в том, что резист экспонирован должным образом, отношение должно быть большим (примерно 10), т. е. минимальное число электронов, которые определенно попадают «а данный участок, составляет Nm = = 102. Поэтому в областях с малыми размерами минимальная ширина линии связана с пороговой дозой выражением
|
( (1.1)
Выражение (1.1) показывает, что очень чувствительные резисты не пригодны для формирования структур с высокой разрешающей способностью, если только на область с малыми размерами не попадает число электронов, существенно большее Минимального.
|
|
История развития пистолетов-пулеметов: Предпосылкой для возникновения пистолетов-пулеметов послужила давняя тенденция тяготения винтовок...
Семя – орган полового размножения и расселения растений: наружи у семян имеется плотный покров – кожура...
Поперечные профили набережных и береговой полосы: На городских территориях берегоукрепление проектируют с учетом технических и экономических требований, но особое значение придают эстетическим...
Биохимия спиртового брожения: Основу технологии получения пива составляет спиртовое брожение, - при котором сахар превращается...
© cyberpedia.su 2017-2024 - Не является автором материалов. Исключительное право сохранено за автором текста.
Если вы не хотите, чтобы данный материал был у нас на сайте, перейдите по ссылке: Нарушение авторских прав. Мы поможем в написании вашей работы!